让李晓凡没想到的是陈大同博士对MEMS这个领域很有研究，介绍起来如数家珍。
“李董，其实ADI公司在1993年就研发出这个微型加速度计MEMS传感器产品了。前年德国博世BOSCH公司发明了硅高深宽比加工的深度反应离子刻蚀工艺，成为了MEMS的主流工艺。此后，MEMS技术发展迅速，特别是围绕深槽刻蚀技术发展出多种新型加工工艺。当下，这个MEMS主要应用于代喷墨打印头，硬盘读写头、硅加速度计和数字微镜器件产品上……”
听到“硬盘读写头”李晓凡心里咯噔一下，这不就是毛思明博士在研究的技术嘛！
与陈大同博士通完电话后，李晓凡过去边上的研发楼，找到了正在带领一帮技术人员在安装研发设备的毛思明博士。
李晓凡跑过去向毛博士请教。
毛博士笑着解释道：“其实我们现在研究的就是一种MEMS-GMR集成磁传感器技术。我们当下研发的GMR巨磁阻传感芯片，就像做蛋糕一样，由几十层的复杂工艺组成。它是一个集磁性薄膜、半导体集成及纳米技术为一体的技术，这技术结构我们可以套用一个数学公式：GMR巨磁阻传感芯片=磁性材料+纳米技术+半导体集成……”