正式投产。
但先天的不足似乎使这个上海华虹NEC“909工程”出师不利。
当时的上海华虹NEC项目，按设计产能每月可以吃进0.35－0.5微米芯片20000片。
但是，当时国内作为它的上游的IC设计公司，绝大多数根本达不到0.35－0.5微米的设计水平
后来导致这条8英寸0.5微米超大规模集成电路生产线只能为日本NEC公司加工DRAM动态存储器。
由于当时国内IC设计公司水平太低，导致无“米”给华虹NEC项目“下锅”，引起许多对此项目非议，不少业内人士担忧：国人雄心勃勃图谋的“909工程”，会否由于IC设计的限制折戟？
而在这期间，全球的IC设计行业进步神速，当时国际IC设计已经达到0.18微米。
而当时国内公司的芯片设计技术大多在0.5微米以上，主要的产品是IC卡、智能卡等小规模集成电路，以及手机、计算机以及VCD等很多产品所需的存储器类通用产品。
与国外的IC设计技术水平相比，我们国内落后了许多！
想到这里，李晓凡不得不佩服倪院士的战略眼光，同时也庆幸自己及时投资了他主导的联