机研发节奏的同时，也是希望阿斯麦、尼康、佳能等光刻机公司投入更多的资金来研发下一代光刻机，等他们资金链紧张了，看他们会不会继续禁止出口光刻机给华夏的企业。
毕竟以前有例可循，一旦华夏研发取得突破，西方的成熟技术产品就会大批量砸掉华夏研发技术的市场，让华夏的后续研发成为无水之源，因为缺乏资金而放弃继续研发，毕竟只投入没产出的事情谁也受不了啊，心态绝对会崩。
这就是半导体这块儿仓耀祖的骚操作，当然只靠这些小花招，也许能蒙蔽一时，长久之下还是会曝光的，但仓耀祖要的也就是一时的蒙蔽，只要那几家公司上当那么一下下，华夏的困局就能解开很多。而距离EUV极紫外光刻机的商用，差不多还要二十年，华夏加大这方面的研发力度的话，研发进程是完全能赶上来的，毕竟，华夏在激光光源这块还是挺强的。
EUV光刻机的极紫外光源主要采用的是将二氧化碳激光照射到锡等靶材上，激发出13.5nm的光子，作为光刻机光源，这种光源具有光学质量近乎完美、高速且完全相同的脉冲，具有半导体行业所要求的清洁度、精确度和可重复性。
激光光源好解决，难的是那近3万个机械零件，有顶级的镜头和光源，