间的重要砝码, 但是在这个连蚀刻尺寸都还以微米计算的时代，挑战纳米级别的技术，感觉跟神经病也差不太多。
这个年代的光刻机技术, 因为过于粗犷的蚀刻尺寸, 其实难度并不高，甚至还有人在自家的地下室里就手工做出一台光刻机的。
光刻说穿了也不难, 就是利用掩膜和曝光技术以及物理蚀刻, 将电路图形传递到单晶表面或介质层上，从而生产出芯片的技术。
20世纪60年代，因为国防和航天业的飞速发展，米国对集成电路的要求越来越高, 大量资金和机会汇集过来，由此出现了第一批专业的芯片设备制造商。
与此同时，欧洲也不甘落后，在荷兰埃因霍温的飞利浦实验室里, 年轻的实验员克洛斯特曼开发出了第一台6镜头重复曝光光刻机。
时间进入七十年代，相位光栅和镜后侧光结合进行投影和对准，高自动化水平的气动控制等技术的应用，让飞利浦实验室的技术继续在全球保持领先，掩膜图案缩小到两英寸，圆晶直径三到四英寸，最细的线条只有两微米宽，误差在十分之一微米以内。
而这个时候，在芯片技术上国内其实并没有被甩得太远。
1972年，四川永州半导体成立，第二年