正文 第246章 如果有这一半的速度，再加上这质量…(2/6)

    临出门时，他突然停下脚步，转头问陈舟：“你该不会熬夜看文献吧？”
    陈舟轻声笑道：“不至于，我再看一会就睡了。”
    沈靖将信将疑的离开了，但回到房间后他觉得不对，这小子的一会到底是个什么概念呢？
    想了一会，沈靖把电脑重新打开了。
    工作，具有专注力的工作，将抵消那股疲惫的困意！
    给自己打了个气，沈靖便开始继续了。
    陈舟这边，等沈靖离开后，便坐回桌子前，继续看文献。
    还剩两个，直流电弧等离子喷射CVD法和微波等离子体CVD法。
    直流电弧等离子喷射CVD法，也叫DAPCVD法。
    这是一种放电区内隐的直流电弧等离子体沉积法。
    这种方法的优点就是，有极快的沉积速度。
    是极快，不是一般的快！
    在上世纪90年代的时候，就有实验室利用阴阳极呈直角的反应器实现了930m/h的高速生长。
    这可是930m/h，不是930μm/h！
    而且，就算是930μm/h，那也是远高于现在四十三所制备金刚石薄膜的40μm/h的。
    更不