沉积热沉级金刚石薄膜，以3μm/h 的速率沉积光学级金刚石薄膜。
而用10kW微波功率的时候，他的沉积速率可以达到25μm/h。
也就是说，通过增大微波功率，可以提高金刚石薄膜的沉积速率。
除此之外，金刚石薄膜的沉积速率还和气体压力有关。
在高微波功率，高的甲烷与氢气体积流量比，160Torr气体压力下，可以制备出150μm/h的多晶金刚石薄膜。
如果在同等条件下，将压力提高至310Torr下，可以制备出165μm/h的单晶金刚石薄膜。
“气体压力……”
“微博功率……”
陈舟在草稿纸上写下这两个词汇。
拿笔点了两下，随手便划了两个圈。
这是重点。
放下笔，陈舟滑动鼠标，继续看文献的内容。
MPCVD法之所以会成为最广泛的方法，是因为这种方法比DAPCVD法制备的金刚石薄膜质量更好。
很好的解决了膜的致密度不高的问题同时，还可以产生大体积的金刚石薄膜。
此外，这种方法还能在曲面或者复杂表面上进行金刚石薄膜的沉积。