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上了热搜第一的，是龙耀公司，在遭受某国不断加码的制裁和打压后，竟然仅仅只用了两年时间，就造出了193纳米深紫外光光刻机（DUV），打破了国外垄断，震惊了全世界！
因为利用这类光刻机，结合多重曝光技术，芯片代工厂可生产出最小制程7纳米的芯片，让芯片性能有巨大的提升。
不过目前海外最先进的是波长13.5纳米的极紫外光刻机（EUV），利用这类光刻机，能够生产出最小3~2纳米制程的芯片，性能、功耗表现都有巨大提升。
目前海外最先进的已得到量产的，就是3纳米芯片。
国内目前最先进的是14nm++芯片，落后至少三代。
龙耀公司虽然攻克了关键的光刻机技术，但要得到7纳米的芯片产品，至少还得一两年的时间。
完全追平海外最先进芯片工艺，至少得五年以后。
今年是龙耀公司受到打压的第三年，重重压力之下，增长势头被打断，今年第三季度营收首次出现下滑，形势极其的不乐观。
如果这个恶劣形势，还要持续足足五年的话，那时的龙耀公司，即便没有倒闭破产，也是奄奄一息，不复