这些，杨铭也早已让人成立。
这些年，除了东洋，欧美，香江本地的人才加入外，还有这两年苏连方面的人才加入。
如今几年时间过去，第一台光刻机终于研发出来。
当然，现在的光刻机和未来三四十年后的光刻机相比，其实复杂程度还要简单太多了。
就国内方面来说，早在1965年，Z国科学院便研制出了65型接触式光刻机。
如果不考虑性能上的差距，M国第一台接触式光刻机是由GCA公司于1961年制造的，彼此间只差了4年。
彼时的Z国人憋着一股“超英赶美”的志气，从不服输。在这种信念的支撑下，Z国光刻机技术进入了一段蓬勃辉煌的独立自主发展期。
70年代初期，Z国科学院开始研究计算机辅助光刻掩模工艺；
1977年，我国成功研制GK-3型半自动光刻机。
1980年，箐华大学在第四代分步式投影光刻机技术研究上取得成功，光刻精度达3微米，接近国际主流水平。
1982年，中科院109厂研制出第一台KHA-75-1型光刻机，与世界尖端水平差距缩短到5年内。
1985年，国内新型分步式光刻机试