逆水行舟不进则退，Z国与第一梯队的距离越来越大，很快便彻底脱节。
其实在这个领域，相比国内与美、日、欧的差距，第一梯队内部的斗争要惨烈且残酷得多。
光刻机的原理，其实并不复杂，甚至在发在初期，其复杂程度甚至不如照相机；一些对光刻机有需求的企业并不向专业厂商购买，而是买来零件自己组装，如英特尔。
而最早的光刻机发展潮流，是由M国人领导的。
1961年，M国GCA公司研制出第一台接触式光刻机，成为光刻机产业的巨头。
1967年，在M国空军的支持下，珀金埃尔默仪器公司推出世界首台投影式光刻机Micralign100，一夜间将芯片良率提升了7倍。
1978年，GCA公司又推出步进式光刻机DSW4800，分辨率可达1微米。
虽然该型光刻机的单价高达45万美元，但各大企业仍趋之若鹜，根本不愁卖。至此，GCA公司进入全盛时期，在其引领下，M国光刻机产业如日中天，殊不知养虎为患，由M国人打造的“产业盛世”已经进入了倒计时。
进入70年代，各大半导体厂商越来越多地选择东洋企业以配套光刻机的光学镜头，如尼康、佳