喝了口枸杞茶，赵烨伏案，继续文件。
文件中的内容主要是有关中国半导体方面的资料。
赵烨不得不庆幸自己重生的时间点比较早，这时的中国在半导体领域的发展速度只比美国晚了六七年，甚至于有些方面，还处于世界领先水平。
这是中国半导体领域奋进直追最好的时代。
要是到了90年代中期，半导体领域的技术代差过大，难度无疑会提升很多倍！
办公室上A4纸文件中提到，BG-101步进式光刻机再次得到了改进，分辨率可达1微米。这个数据在当下也是比较先进的。
1978年，美国GCA公司推出的步进式光刻机DSW4800，其分辨率也只是达到了1微米而已。该型光刻机在当时是世界上最先进的光刻机，单价高达45万美元，但各大企业仍趋之若鹜，根本不愁。GCA公司进入全盛时期，在其引领下，美国光刻机产业如日中天。
不过，从80年代开始，各大半导体厂商越来越多地选择RB企业以配套光刻机的光学镜头，如尼康、佳能等。在这个过程中，RB企业将本不复杂的光刻机技术摸得一清二楚，并开始了自己的尝试。
随着光刻技术的不断进步，芯片制程越来越小