等院士们很热衷于帮助赵烨建立「无疆光刻胶有限公司」。
于是，赵烨就把这件事托付给他们负责，自己最后出钱就是了。
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光刻胶占据电子材料至高点，对于国家的发展至关重要。
上游原材料且不提，主要是中游制造，主要分为：PCB光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶三种，分别对应着下游应用：PCB产业、面板产业、半导体产业。最后则是电子产品应用终端，比如手机、家电、航空航天、汽车电子等等。
不难看出，发展光刻胶对于一个国家科研、工业产业等发展至关重要。
前世，半导体光刻胶按照曝光波长不同可分为g线（436nm）、i线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）以及新兴起的EUV光刻胶5大类，高端光刻胶指KrF、ArF和EUV光刻胶，等级越往上其极限分辨率越高，同一面积的硅晶圆布线密度越大，性能越好。
当前的半导体制程还不那么先进，主流工艺在800-1200nm之间，因此波长436nm的光刻光源就够用。
中国在70年代就开始研究光刻胶了。
光刻胶巨头JSR，也只是在1979年进入