错的选择，反正留给台积电或者三星可就是严重资敌了，那可就十分不好了，仓耀祖可不想给自己增加难度。人情、金钱、股份齐上，不惜代价也要拿下他啊。
除了胡正明教授这个Fi之父外，仓耀祖想要挖的还有两个人，一个是华夏刻蚀机之父尹志尧，一个就是林本坚。
刻蚀机不说了，虽然没有光刻机重要，但也是半导体行业不可或缺的重要设备。光刻机、刻蚀机和薄膜沉积设备是芯片制造过程中的三大核心设备，如果把芯片比作一幅平面雕刻作品，那么光刻机是打草稿的画笔，刻蚀机是雕刻刀，沉积的薄膜则是构成作品的材料。
光刻的精度直接决定了元器件刻画的尺寸，刻蚀和薄膜沉积的精度则决定了光刻的尺寸能否实际加工，因此光刻、刻蚀和薄膜沉积设备是芯片加工过程中最重要的三类主设备。
那一世，直到2004年尹志尧才回国创建了中微半导体，这一世，仓耀祖希望提前促成这件事情，嗯，缺人挖人，缺钱投钱，砸也砸出一个刻蚀机头部企业。
而林本坚，他就是那一世台积电如厮强横的一大保证了，仓耀祖教给清微半导体的浸入式光刻技术就是林本坚提出并坚持推动的结果。
其实浸入式光刻技术在1984年