光刻机是制造业内对精密性要求最高的产品。光刻的原理就像在米粒大小的面积上，雕刻纳米级大小的文字，对于误差的要求可想而知。
比如光刻机里有2个同步运动的工件台，一个载底片，一个载胶片。两者需始终同步，误差在2纳米以下。两个工作台由静到动，加速度跟导弹发射差不多。
三，光源。
制造EUV需要极高的能量。EUV能被空气吸收，所以光刻环节必须耗电保持真空环境。更夸张的是，EUV还能被透镜吸收，所以只能用十几次面透镜，通过不断反射将光源集中。
每反射1次，EUV的能量就会损失3成。十几次反射后，到达晶圆的光线理论上只剩下2%。从能连赶上看，寒国某半导体企业曾经说过，极紫外光EUV的能源转换效率只有0.02%左右。
四、镜头。
光刻机的中心镜头对于镜头要求较高，位于光刻机中心的镜头，由20多块锅底大的镜片串联组成，需要高纯度透光以及高抛光。
目前，符合光刻机要求的镜片还无法靠机器制造，先进光刻机镜头全部由手工打磨而成，能够达到这一标准的公司并不多，全世界范围内也就一两家，全部是西方老牌公司。
这四大