类的核心技术中。
卫明了解到这位牛人蒲伟才跟他的技术团队，在短短的十年时间里，一共攻克了两项。
分别是双工台技术与光源技术。
他带领团队研发出的高精密双工台，控制精度也达到了2纳米，跟国外最先进水平，达到了同等先进的程度，抹平了技术差距，可以说是打成了平手。
在光源技术方面，蒲伟才也是只用了短短几年时间，利用国内在激光技术领域的领先地位，以及材料方面的优势，开发出的EUV光源系统，最终能源利用率达到了5%。
较之于艾思迈EUV光刻机的2%，能源利用率提升了一倍还多！
这意味着光刻机在使用的过程中，能节省一半多的电，减少产生大量的热量，系统的稳定性能提高不少。
也就是说，在EUV光刻机领域，蒲伟才这位牛人，以及他带领的技术团队，四大核心技术中，他们攻破了两个。
剩下的两大核心技术中。
组装技术方面，魔都微电子公司近些年已取得了巨大突破，具备了将10万多个零件组合成一台光刻机，并让其长期稳定工作下去的能力。
唯独镜头这块，国内还迟迟未能突破，因为艾思迈公司EUV光刻机所用